Photomask Japan 2025 （第31回 ホトマスク技術展示会）
- 日時
- 2025年4月17日（木）～18日（金）
- 会場
- パシフィコ横浜 アネックスホール F201+F202
- ブースNo.
- No.13
- 公式サイト
- https://smartconf.jp/content/pmj2025/technicalexhibition2
展示予定製品
- EUV光源 TEUS
- レーザー励起白色光源 XWS-X/XR (高出力)
- レーザー励起白色光源 XWS-65(標準)
- レーザー励起白色光源 XWS-30
- 波長可変光源 Hyperchromator
- 超高感度VUV,EUV,X線領域対応 CCDカメラ
ALEX-i
- 真空チャンバー内向け
超高感度VUV,EUV,X線領域対応 CCDカメラ LOTTE-i
- UV照射器(LED) ALE/1
- UV照射器(LED) ALE/2
- UV照射器(LED) ALE/3
- UV照射器(LED) ALE/1C
（※展示品の機種は変更になる場合もございますので予めご了承ください。）
ケイエルブイ株式会社 ブースNo. 13
今回のホトマスク技術展示会では、EUVマスクブランクスやEUVリソグラフィに応用可能なISTEQ社のEUV光源をメインにポスター展示致します。
「高輝度」且つ「低デブリ」を実現したISTEQ社のEUV光源TEUSシリーズは、回転式金属ターゲットを使用しているため、プラズマ発生時に飛散するデブリが少量で光学系への汚染も最小限です。
その他、DUV~NIRの高輝度光源や、高出力UV-LED照射装置などもご紹介いたします。
ぜひ弊社ブースにお越しください。ご来場を心よりお待ちしております。
Photomask Japan は展示会のみの入場は無料です。
事前に「展示会来場登録」をお済ませの上、ご来場ください。
展示会来場登録：https://forms.office.com/r/UFZQN1VsRy/
Photomask Japan 2025 ホトマスク技術展示会：https://smartconf.jp/content/pmj2025/technicalexhibition2
