Photomask Japan 2026 _ 第32回ホトマスク技術展示会
- 日時
- 2026年4月9日（木）～10日（金）
- 会場
- パシフィコ横浜 アネックスホール
- ブースNo.
- No.4
- 公式サイト
- https://smartconf.jp/content/pmj2026
展示予定製品
- 超高感度 VUV/EUV/X線領域対応 sCMOSカメラ
CHARLIE
- 超高感度 VUV/EUV/X線領域対応 CCDカメラ
ALEX-i
- 真空チャンバー内向け
超高感度 VUV/EUV/X線領域対応 CCDカメラ
LOTTE-i
- EUV光源 TEUS
- レーザー励起白色光源 XWS-30
- レーザー励起白色光源 XWS-65(標準)
- レーザー励起白色光源 XWS-X/XR (高出力)
- UV照射器(LED) ALE/1C
- UV照射器(LED) ALE/1
- UV照射器(LED) ALE/3
Photomask Japan 2026（ホトマスク・ジャパン2026）_ 第32回ホトマスク技術展示会では、EUVマスクブランクスやEUVリソグラフィに応用可能なEUV光源TEUSシリーズをはじめ、EUV光の観察が可能な超高感度カメラ、周辺露光に適用可能なUV-LED光源装置などをご紹介予定です。
※展示品の機種は変更になる場合もございますので予めご了承ください。
- 開催期間：2026年4月9日（木）10：00～17：00 、10日（金）10：00～16：00
- 場所：パシフィコ横浜 アネックスホール
- 弊社ブース： No. 4
※Photomask Japan 2026 は、「技術展示会」の入場は無料です。
事前に来場登録をお済ませの上、ご来場ください。
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詳細については公式サイトをご確認ください。
https://smartconf.jp/content/pmj2026/technicalexhibition_jp
