ISTEQ

ISTEQ社は、レーザー励起による高輝度広帯域プラズマ光源の製造メーカーです。長寿命で発光点が小さく、深紫外から近赤外の広い波長域を連続スペクトルで出力できるため、分光分析やウエハ検査、高解像度の顕微検査など様々な用途に対応できる光源です。

ISTEQの製品一覧

EUV光源　TEUS

高輝度、低デブリを実現したLPP-EUV光源

EUV光源TEUSは回転式金属ターゲットを使用しています。従来の液滴ターゲットと異なりプラズマ発生時に飛散するデブリの光学系への付着を防ぐことができます。

レーザー励起白色光源XWS-Xは、レーザーからの連続するエネルギー入力と、使用される媒体との間の相互作用（光放電）により点発光するプラズマ光源です。 XWS-65(標準品)に対して、出力の高いレーザーを搭載しており、非常に高い輝度 max.140mW/(mm2·sr·nm)@XWS-X、max.185mW/(mm2·sr·nm)@XWS-XRを誇ります。特に、XWS-XのUV領域における輝度はXWS-65に対して6倍と非常に強力です。動作原理 XWS光源の動作は、高圧キセノンガス中の光放電の現象に基づいています。最初のプラズマは、キセノン中の高電圧放電により作り出されます。キセノンのプラズマ状態は、集光型連続レーザー放射によって維持されます。（特許番号：JP 6885636 B1）従来ランプ光源との比較従来型のキセノン光源（キセノンアーク灯）と比較すると、空間的かつ時間的に高安定性で、発光点が小さく、高輝度長寿命となります。

レーザー励起白色光源 XWS-65(標準)

光源デモ機あり

高輝度・広帯域（UVC～NIR）・長寿命の汎用白色光源

レーザー励起白色光源XWSは、レーザーからの連続するエネルギー入力と、使用される媒体との間の相互作用（光放電）により点発光するプラズマによって光が作り出されます。 UVC（深紫外）からNIR（近赤外）までの幅広い波長の光を高輝度で得られる光源です。従来のガス放電灯（水銀ランプ、重水素ランプ、タングステン、キセノンランプなど）およびLED に代わるものとして開発されました。これらと比較すると、XWS光源は高輝度で幅広い波長範囲(190~2500nm)の出力が可能です。スペクトル図を見て頂けるとわかりますが、波長域毎に大きな山や輝線が無く、安定した連続スペクトルが出力されます。そのため、目視では白色となる使いやすい光源です。動作原理 XWS光源の動作は、高圧キセノンガス中の光放電の現象に基づいています。最初のプラズマは、キセノン中の高電圧放電により作り出されます。キセノンのプラズマ状態は、集光型連続レーザー放射によって維持されます。（特許番号：JP 6885636 B1）従来ランプ光源との比較従来型のキセノン光源（キセノンアーク灯）と比較すると、空間的かつ時間的に高安定性で、発光点が小さく、高輝度長寿命となります。

レーザー励起白色光源 XWS-30

デモ機あり注目の製品光源

小型/コンパクト・高輝度・広帯域(UVC～NIR)・長寿命の汎用白色光源

レーザー励起白色光源XWSは、レーザーからの連続するエネルギー入力と、使用される媒体との間の相互作用（光放電）により点発光するプラズマによって光が作り出します。 XWS-30は、レーザー等を発光部内に格納しており、ドライバユニットなし（発光部のみ)で動作します。 XWS-65同様に、幅広い波長範囲(190~2500nm)での高輝度光を実現しながら、非常にコンパクトな筐体を実現したため、装置への組み込み等に最適です。動作原理 XWS光源の動作は、高圧キセノンガス中の光放電の現象に基づいています。最初のプラズマは、キセノン中の高電圧放電により作り出されます。キセノンのプラズマ状態は、集光型連続レーザー放射によって維持されます。（特許番号：JP 6885636 B1）従来ランプ光源との比較従来型のキセノン光源（キセノンアーク灯）と比較すると、空間的かつ時間的に高安定性で、発光点が小さく、高輝度長寿命となります。