超小型ECRプラズマ源　TESシリーズ

幅広い用途を網羅した超小型ECR（電子サイクロトロン共鳴）バイポーラ技術によるプラズマ源

独自の技術である、超小型ECR（電子サイクロトロン共鳴）プラズマ源により、あらゆるサイズと形状のイオンビームや電子ビームの作成が可能です。また複数のプラズマ源を独立して、同時に動作することにより、柔軟なイオンおよび電子ビームソリューションの設計と製造が出来、幅広いアプリケーションに対応致します。

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カタログ

携帯電話に使われいるものと同等の送信機と送信機にあわせたマイクロ波共振器を使うことで小型、非常に低い消費電力（～1W）のプラズマ発生源を実現しました。

抽出光学系の調整、バイアスの変更、原子源の場合は荷電粒子を捕捉するための偏向器を変更することで多種のビームが選択可能になっています。

抽出光学系を追加することで、ビーム形状を集束ビーム、平行ビーム、または発散ビームに変換可能です。

イオンビーム造形の用途には、表面上の材料を局所的に除去するために集束ビームを使用します。一方、表面の洗浄は通常より広い発散ビームを使用することが多いです。

フランジに直接取り付けることもできますが、フレキシブルコネクタのみで任意の場所にプラズマ発生源を配置できます。

フィラメントを使用しないため、消耗品がなくメンテナンス回数を減らすことができます。

仕様アプリケーション PDF資料
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	TES-GO	TES-40	TES-63	TES-100	NanoVac
放電	ECR(フィラメントフリー)
使用可能ガス	H₂, He, N₂, O₂, 貴ガス, 分子ガス				He
マイクロ波電力	0.5～5 W (2.45GHz)				5～50 W (10GHz)
最大エネルギー	5 kV	5 kV	15 kV	30 kV	30 kV
真空系の直径	36.5 mm	36.5 mm	62 mm	96 mm	195 mm
フランジタイプ	CF40 for HV gas and HF feedthrough	CF40	CF63	CF100	CF200
冷却	なし				油もしくはイオン交換水
電子機器	19インチラック×2：コントローラー(HFを含む)、HV				19インチラック×3：コントローラー、HV、HF
ハードウェア制御	マイクロコントローラー
通信プロトコル	イーサネットUDP, RS232
ユーザーインターフェース	LabVIEW executabl(イーサネットUDP のみ)
ガス制御	マイクロリークバルブもしくはマスフロー