ISTEQ社プラズマEUV光源TEUS

EUV光源回転ターゲットによる高輝度・低デブリの実現

ISTEQのEUV光源は回転ターゲットによって飛散デブリを低減し、高輝度/高安定を実現します。

本資料では、ターゲットを回転数による「飛散デブリの違い（SEM画像）」、「出力の安定度（EUV光出力）」などデータでを用いて回転ターゲットのメリットを示します。

※より詳しい情報をご希望の方はケイエルブイまでお問い合わせください。

ISTEQのEUV光源「TEUS」資料

回転ターゲットを用いたEUV光源の資料を以下からダウンロードいただけます。

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