ISTEQ社 プラズマEUV光源TEUS
EUV光源 回転ターゲットによる高輝度・低デブリの実現
ISTEQのEUV光源は回転ターゲットによって飛散デブリを低減し、高輝度/高安定を実現します。
本資料では、ターゲットを回転数による「飛散デブリの違い（SEM画像）」、「出力の安定度（EUV光出力）」などデータでを用いて回転ターゲットのメリットを示します。
資料の内容
- 回転ターゲットについて
- 特徴
- メリット
- 原理
- 回転数の違いによる結果
- 飛散デブリの違い
- 出力の違い
- TEUSのスペック
- TEUS-S外見、スペック
- TEUS-M外見
※より詳しい情報をご希望の方はケイエルブイまでお問い合わせください。
ISTEQのEUV光源「TEUS」資料
回転ターゲットを用いたEUV光源の資料を以下からダウンロードいただけます。
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